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  • S 型架构产品知足半导体超声喷涂光阻工艺生产需要 ,单位 ?槲 Robot 设计 ,可选配多种喷胶功效部件 ,知足半导体高端封装/MEMS/光学模组/柔性基板/不规则基材等差别喷涂光阻工艺生产的客户需求
  S 型架构产品知足半导体超声喷涂光阻工艺生产需要 ,单位 ?槲 Robot 设计 ,可选配多种喷胶功效部件 ,知足半导体高端封装/MEMS/光学模组/柔性基板/不规则基材等差别喷涂光阻工艺生产的客户需求 。
  . 适用于 6 英寸 ,8 英寸或 12 英寸晶圆≤500mm 方片等产品
  . 基材:硅晶圆、玻璃、陶瓷、柔性薄膜、金属等
  . 适用于胶膜厚度 0.8-20um 喷涂工艺产品生产
  .  ?榛牡ノ槐阌谖
  . 图形化的人机交互界面

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