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  • M 型架构产品知足半自动半导体超声喷涂光阻工艺生产需要 ，单位？榛杓 ，可选配多种喷胶功效部件 ，知足半导体高端封装/MEMS/光学模组/柔性基板/不规则基材等差别喷涂光阻工艺生产的客户需求
　　M 型架构产品知足半自动半导体超声喷涂光阻工艺生产需要 ，单位？榛杓 ，可选配多种喷胶功效部件 ，知足半导体高端封装/MEMS/光学模组/柔性基板/不规则基材等差别喷涂光阻工艺生产的客户需求。
　　. 适用于 6 英寸 ，8 英寸或 12 英寸晶圆≤500mm 方片等产品
　　. 基材：硅晶圆、玻璃、陶瓷、柔性薄膜、金属等
　　. 适用于胶膜厚度 0.8-20um 喷涂工艺产品生产
　　. ？榛牡ノ槐阌谖
　　. 图形化的人机交互界面

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